等離子設(shè)備利用了常壓等離子技術(shù)來清洗各種活化聚合物、金屬、陶瓷、玻璃和混合材料的表面，對于常壓等離子技術(shù)，等離子的生成是由于氣體在大氣壓力下通過高電壓而被激發(fā)。等離子由高壓氣體驅(qū)動從噴嘴中一同噴出。其等離子效應(yīng)可以分為以下兩種：通過等離子束中所攜帶的反應(yīng)粒子實現(xiàn)的表面激活及精密清洗，此外，松散附著于材料表面的微塵將由高壓加速的激活氣流帶走。表面清洗、處理和活化實際上是由氣體流中的活性反應(yīng)粒子來實現(xiàn)的。除此之外，在被處理表面的松散有害粒子將會被壓縮空氣中的活性氣體離子清除。
 

　　等離子設(shè)備可以在常壓下產(chǎn)生的等離子體，與低壓等離子體相比，常壓等離子體具有電子的溫度高于離子的溫度、電子能量高的特征。常用于進行固體材料的表面處理。常壓等離子可用于各種表面的局部預(yù)處理，如清洗和活化聚合物、金屬、陶瓷、玻璃和混合材料等，也適合用于機器人，并且可以集成到現(xiàn)有的自動化生產(chǎn)線中，
 

　　等離子設(shè)備對清洗樣品，沒有任何材質(zhì)、外觀尺寸等要求，清洗效果好，效率高，應(yīng)用范圍廣。等離子清洗過程中，溫升很小，基本可達到常溫處理。射頻功率無極連續(xù)可調(diào)。特制電極和托盤結(jié)構(gòu)，可充分利用真空艙體內(nèi)部空間，使處理效率達到最高，同時也可保證樣品可得到全面有效的清洗。*的過載、短路和過熱保護電路，可保證射頻電源的穩(wěn)定和安全。設(shè)備整體模塊化設(shè)計，安裝與維護極為簡單。